小的瑕疵都可能导致下游制造环节的灾难。
“这些缺陷，影响几何？”
“微缺陷会导致芯片制造的层间短路或断路，造成芯片失效；氧含量分布不均可能影响局部热稳定性和电学特性；翘曲度太大，则会使后续光刻的焦平面不平，导致成像模糊甚至失败；电阻率不均更直接影响芯片性能的稳定性和良率。”何建中如数家珍，脸色凝重，“可以说，任中一项控制不住，这片子就是废品，或者说只能用于要求极低的产品。”
“攻克需要多久？多久能拿出合格的量产品？”
何建中深吸一口气，展现出一种技术带头人特有的、基于数据的自信：“困难很大，但根据我们现在的实验数据和迭代速度，我有信心在两年内啃下这些主要技术难关，实现六英寸晶圆的稳定量产！良率目标是达到国际二流水准！”
“两年？有把握吗？”
“有！”何建中重重点头，“这得益于两方面：一是孙总的支持，我们的研发经费很充裕，让我们可以毫无顾虑地购买最好的原料、试验不同的工艺、引入顶级顾问、甚至自己设计制造专用设备。钱，是研发的第一推进力！”
他顿了顿，话锋中透露出对国内基础工业积累的认知：“二是国内在材料科学和基础工业上，本来就有相当好的底子，像硅材料提纯、晶体生长理论、精密设备制造，国内高校和研究所都有数十年的研究积累。
以前是巧妇难为无米之炊，没有经费支持大规模工程化。现在有了钱，我们整合这些分散的人才和技术资源，在材料环节的突破速度超出了我的预期。
像高纯多晶硅原料、配套的高纯石英坩埚、切割用的金刚石线等关键耗材，我们已经找到了国内合作单位或实现了小规模自主突破。”
他引着两人走向正在调试的晶圆切割区，指着那些闪着冷冽锋芒的切割线：“比如这台切片机，核心部件就离不开西安一家军工厂的技术突破。”
接着，他又指向一间挂满工程图的办公室：“还有就是国际环境的微妙变化。西方在5-6英寸这个层面已部分放开。我们通过一些特殊渠道，引进了一些关键的监控设备、温控系统和部分替代性的辅助设备。”
何建中继续说道，“这几年，我们与俄罗斯的相关技术人员，做了不少交流，也邀请了好些位国外专家，获益匪浅，他们的技术人员给了我们极其重要的启发！”
孙明远听完，相当满意，“好！非常好！当初你说可以做到，我还有些不放心，现在这进度，这思路，比我预期的还要快、还要稳！6英寸一旦搞定，下一步？”
“8英寸！”何建中毫不犹豫，“6英寸的设备和经验会形成坚实的基础，我们已经启动8英寸硅片的技术预研和关键装备的布局，这是一个跳跃，但我们有路径图了！”
车队没有停歇，驶入了一片技术等级更显神秘的区域，这里名义上是上海电力的研发中心，实际上却是孙明远的光刻机研发部门，其母公司是长安精密机械公司，表面上与孙明远没有任何关系。
长安精密机械公司实际上是孙明远给华实出钱，华实会同成飞一起合作开发，用于中高端数控机床和各类精密设备的研发。
为了这家公司的发展，孙明远可是下了血本，不仅仅从见钱眼开的英国想办法引进各种设备，也花大价钱从老毛子引进设备和人才，硬生生堆出来的国之重器。
“这是我们在研的后道光刻机。”负责这个项目的赵研究员指着一个相对小巧的光刻设备单元介绍，“后道光刻用于芯片制造后段的封装、划片、打线等环节，精度要求相对较低，难度较小，我们已经取得了突破！”
“我们整合了国产的光学镜头、欧洲进口的步进电机、英国生产的精密导轨系统，现在样机的重复定位精度和线宽控制已经达到封装应用的要求，预计一年内可定型量产，部分替代进口，满足我们自身需求……”
孙明远点点头，接着去考察另外一个关键设备，液晶面板光刻机，主要用于在玻璃基板上制造TFT晶体管阵列和彩色滤光片图案。
“液晶光刻对套刻精度要求也不如CPU光刻那么极端，线宽通常在3-5微米，我国理论上可以研发，但难点在基板尺寸巨大……”
赵研究员介绍道，“我们与中科院和机电委员会下属研究机构合作，主攻大视场投影光学系统和平行光照射，进展比较顺利，预计明年上半年第一代样机可以出来……”
这些也就罢了，说到底技术难度不算大，但等到365nm光源的 i线前道光刻机，负责的孔研究员告诉他两年内机器就可以上生产线。
虽然这种光刻机光源属于汞灯光源，虽然从东德和前苏联搞来了不少技术，虽然从英国搞来了一些欧美封锁的激光干涉仪等产品，但孙明远很清楚，目前国内的技术能力是有限的，i线前道光刻机没那么容易突破，他让研发主要是练手。
所以孙明远皱眉道，“我对前道光刻机的要求不高，你们把相关实验做扎实了，砍柴不误磨刀时！”
顿了顿，他强调道，“这两年我搞飞机发动机，发现国内搞了几十年，都没有搞出真正堪用的航空发动机，除了上级拨款不够，对时间卡得紧，指标又定得高以外，也跟咱们的同志做事不细致，很多该做的试验草草了事有关。
我要的是真正能够对外销售的光刻机，不是向上级报喜的攻关项目，光刻机搞出来后，不仅自己用，还要想办法对外出口，你们不要把国内研究机构的破毛病带进来！
我宁愿你们慢慢来，也不希望你们先给我一个惊喜，但上了生产线，这个问题，那个问题，实际上不能用！
我这个资本家给钱爽快不假，但我眼里揉不得沙子，我投了钱，没有结果，我是要算账的，到时候让赔钱都是客气的！”
这番话说的非常不客气，吴枢机和米市长自然要打圆场，孙明远也没有继续，而是来到了他固执己见推行的液浸光刻机项目。
负责这个项目，并不是国内技术人员，而是孙明远费尽心思挖来的林本坚博士，“孙先生，您好，欢迎指导！”
林本坚博士带着孙明远来到一处实验装置，那里密布着略显陈旧的激光器、镜片组、复杂的水槽和管路系统，这里面有很多来自于林本坚在IBM的技术积累，粗粗估计，光光这些，就给孙明远节省了几百万美元。
而这一切甚至于还不是孙明远有意为之，IBM出现巨大亏损，正在转型，一些看起来不那么重要的项目组被撤销，这就便宜了很多美国高科技公司和孙明远，林本坚仅仅是他的一部分收获……
林博士的神色变得专注而充满挑战的兴奋：“先生，这里就是我负责的浸没式光刻原型验证项目，条件有限，我使用早期汞灯光源（436nm波长）步进式光刻机进行改造实验。
虽然早期汞灯光源波长较长，但原理是共通的——关键在于验证液体作为浸没层对提升等效数值孔径的理论可行性！”
林本坚引着大家走到观察窗：“请诸位看现在进行的关键步骤。”
在光刻机的物镜下方，不再是传统的空气。一层经过特殊设计的、极其纯净的液体（并非纯水，而是为436nm优化折射率的特制油），以精密可控的方式，覆盖在涂有感光胶的硅片表面！
物镜的末端，稳稳地浸入在这一层薄薄的液体之中！旁边标志性的汞灯光源发出特有的可见光偏紫色的光芒。
吴枢机眉头紧锁，技术思维的惯性让他困惑，“林教授，这液体难道不会污染精密光学元件、产生气泡扰乱光路吗？”
“确实有这个问题，但有办法克服！”
就在此时，现场实验指挥官下达指令，光源激发，光线穿透特殊油层，在硅片表面的光刻胶上瞬间完成了复杂图形的一次曝光。高精度移动台平稳移动，准备下一次曝光，实验完成后，硅片被迅速送往隔壁的显影分析实验室。
孙明远默默等待着，几十分钟后，分析报告抵达林本坚手中，他仔细审视着线宽测量数据、图形边缘陡峭度、分辨率极限测试图案的清晰度，以及最关键的，浸没与非浸没条件下的分辨率对比图谱！
他向孙明远介绍：“孙先生，您看，主要技术指标全部达到预期设计线宽，虽然原型改造粗糙，还存在诸多工程挑战，比如液体挥发控制、稳定性、对光学元件的长期影响等等，都需要仔细研究。
但在同等条件下，对比未浸没的同台机器，分辨率提升幅度完全符合理论计算，浸没技术路径在光学原理层面的可行性，被证实了……”
他看向孙明远，不断游说着，“现在国外新一代光源是248nm，但大陆基本没有开发，就算投资几亿美元开发，也会遇到各种专利的阻拦。
我们这条路线一旦取得突破，就不需要花费巨资开发这种新光源，而且相关技术积累也可以用于未来的深紫外和极紫外光刻机的开发，我相信这条路线非常适合大陆！”
“林博士！”孙明远很激动的点点头，“辛苦了！把你请来，负责这个项目的研发，是我做出的最正确的决定！”
当天考察结束，心中激荡着成功喜悦的孙明远邀请林本坚共进晚餐，在一间安静的包间里，没有了白天的喧嚣和旁人，两人放松下来。
“林博士，今天真是载入史册的一天。敬您！”孙明远举杯，由衷说道，“没有您对物理的深刻洞察和不懈坚持，这条路不会这么快就走通。”
林本坚谦和地笑了笑，眼中带着一丝不易察觉的回忆：“孙先生，过誉了，其实，这种‘挑战主流’的事情，我并不是第一次做。”
他放下酒杯，语气平静地讲起一段往事：“您可能不知道，在IBM做深紫外光刻研究时，也是‘离经叛道’。
IBM内部，甚至在业界，很多人认为X光微影才是下一代光刻的主流方向。负责X光微影项目的负责人，恰恰是我的顶头上司。他所掌握的资源、团队规模，都是我的深紫外团队望尘莫及的。”
林本坚露出一丝带着苦涩的自嘲笑容：“我们的处境非常尴尬。你辛苦钻研的方向，上面并不看好，投入又少，甚至还要面临被随时砍掉的风险。
但我坚信，DUV在材料选择、光源能量、尤其是可量产性上，拥有X光难以比拟的潜力，而X光需要极其昂贵的同步辐射光源，且掩模版制作、对准都是巨大难题，DUV路线路径更清晰，更有可能实现。”
他的眼神忽然闪动着一种少有的狡黠和叛逆的光芒：“某天，X光微影团队宣称取得了‘阶段性重大进展’，我的顶头上司非常高兴，给整个部门每人发了一件T恤，上面印着‘X ray works!’作为庆祝。”
孙明远饶有兴致地问：“哦？那您呢？也穿了？”
林本坚哈哈大笑起来：“我是穿了！但我可不是默默穿。我拿起马克笔，在T恤背后大大地加了三个字——变成‘X ray works – for the dentists!’（X光有用——给牙医用！）
然后用磁铁把这件‘创意T恤’牢牢贴在我办公桌后面的文件柜上，正对着过道！昭告所有路过的同事！”
孙明远闻言，笑得前仰后合，拍案叫绝：“妙！太妙了！后来呢？你上司没生气？”
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