他完全可以拿全自动的出来。

    但赵阳这么做也是经过考量的。

    主席同志曾说过，理论要结合实践。

    所以他特意把半自动提升全自动的这部分工作内容留给在场这帮‘学生们’。

    就当是他们学习完理论知识后实践的第一步，也能起到锻炼队伍的作用。

    现场，大约五六十人正聚精会神看着赵阳一举一动，瞪大了眼睛，丝毫细节都不放过。

    只见赵阳一脸认真专注的把一片硅基片放入清洗机器上，基片的清洁度决定了后续加工的准确性和精度。

    等清洗完毕，赵阳小心把基片夹出，然后放入匀胶机的转速平台上，进行光刻胶涂敷工作。

    也不大会，在光刻胶涂敷完毕，下一步硅基片则进入曝光室内，这里就需要赵阳亲手微操，通过控制系统将激光线投射到光刻胶上，从而制造出所需的图案和结构。

    这一过程持续二十多分钟，房间内一片安静。

    大家伙大气都不敢踹，全都屏住了呼吸，生怕引起一点异动惊扰到了赵阳，导致芯片制造失败。

    而在完成了曝光之后，下一步骤就是将光刻胶进行显影，以去除未曝光的部分。

    在把基片转入到显影液中浸泡光刻胶，这时候就是等待了，这个过程约莫十分钟左右。

    赵阳这时候趁机转过头，朝向大家伙讲解道：“我制作的这片硅基芯片所采用的制程是一微米，良品率能有百分之九十左右，而它最高能制作0.4微米，也就是400纳米制程的芯片，良品率在百分之七十五到八十之间，如果是全自动化，我预计这个良品率还能提升约十个百分点。”（1微米等于1000纳米）

    赵阳刚刚说的无论是一微米制程还是四百纳米制程并不是说芯片整体外观大小。

    而是在芯片上光刻布置的元器件的间距，换句话说也就是晶体管之间的距离。

    间距越小，同等面积的芯片上晶体管能容纳的数量就越多。

    通俗形容，就是一微米制程，就是晶体管之间的距离是一微米。

    后世无论是七纳米制程还是五纳米制程，指得也是晶体管只见的距离只有七纳米或五纳米。

    不出所料，赵阳所说这台光刻机的结论语引发了在场不少人的惊叹。

    很快，随着赵阳取出浸泡之后的硅基片，接着将其放入清洗设备内进行清洗，把上边的显影液和其它污染物给洗干净。

    等通过高压气体喷射过后，这张小小的芯片就被戴有无尘手套的赵阳拿在手中，随后将其放入专用的电路进行测试。

    整体下来十分顺畅顺利，而结果也丝毫没出意外，测试通过了！

    芯片完全没有问题！

    也是这时候，大家压抑许久的情绪终于有机会宣泄了，如同水坝一般放开了水闸，封闭式的实验室内瞬间爆起喧嚣声。

    “太厉害了，我认为这台光刻机能当之无愧的成为目前世界第一！”

    “我听说丑国那边贝尔实验室还在摸索流水线生产的方式，而我们都已经用上光刻机了！”

    “你消息闭塞了，丑国贝尔实验室已经落后了，有家叫仙童公司的听说已经弄出了光刻机，不过肯定没我们的厉害。”
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