简宏放是特意过来接车的。

    他跟江强当初一起在丑国留学。

    而后又一块回来报效祖国，有着很深的友谊。

    “老简，你是不知道我这几天有多么的煎熬，还是你离得近舒坦，早早的就过来了。”

    江强下车后，在听完简宏放所说先是松口气，然后就开始倾诉心声。

    “我跟你说，等到了中科院，你就会觉得这一路的辛劳都是值得的。”简宏放等上了专车后，小声跟着又道：“赵阳同志前几天就已经把光刻机运送去了中科院，今天据说要运行生产，让我们亲眼观摩一遍。”

    闻言，江强瞬间瞪大了眼，满是惊喜！

    可别以为现在我国的顶尖人才不知道光刻技术。

    在原本的历史轨迹上，六五年，中科院半导体所就研究出了六五式接触式光刻机，并出版了一系列教学丛书。

    到了七八年，中科院半导体研究所又成功研发自动接近式光刻机。

    到九零年又成功研发出分步投影光刻机，可以实现全自动化操作，每小时能生产三十九颗100mm硅片，精度达1.25微米。

    六年后，川都光电所又成功研制0.8-1微米分步重复投影光刻机，性能足以对标丑国在九十年代初推出的8500se光刻机。

    所以我国的光刻机技术从未停止研发，起步并不晚。

    只是碍于很多因素才逐渐落后世界一流水平。

    半个多小时后，中科院半导体所实验室。

    等简宏放带着江强过来，憋了好几天的他终于从赵阳口中得到了光刻机的性能参数。

    “这台光刻机的精度是一微米，深紫外线光源波长193nm，掩膜尺寸为125x125mm2，硅片尺寸为75mm，100mm...”

    赵阳有给这台光刻机准备了资料，但并没有带过来，这也是保险起见。

    否则一旦泄露出去，在目前这个环境下，难保不会发生什么极为恶劣的事情。

    所以他一边说，一边开始启动这台光刻机进行制造芯片，让同志们亲眼看一遍。

    说起光刻机的工作原理，其实也不算太复杂，通俗的形容可以把光刻机看成是一台高精度的底片曝光洗印机，它负责把底片，也就是设计好的芯片电路图曝光到相片纸上。

    这个底片有一个专业名称，叫做掩膜。

    这里的相片纸就是制造芯片的基底材料硅晶圆。

    曝光后得到的最终照片就是芯片。

    光刻机的基本结构也不复杂。

    最关键的部件只有三个：光源发射器、用来调整光路和聚焦的光学镜头，以及放置硅晶圆的曝光台。

    让光刻机真正复杂起来的是随着芯片上晶体管数量集成越来越多，甚至可以说是呈指数级增长。

    相应地，光刻机的精度也必须越来越高。

    用后世华为的麒麟7纳米芯片举例。

    生产这样的芯片，要用最先进的极紫外光刻机。

    把光想象成一把刻刀的话，那么光波越短，这把刻刀就越锋利。

    1纳米等于百万分之一毫米，7纳米芯片意味着，它的每个元器件之间，只允许有几纳米的间隔距离，相当于一根头发丝粗细的万分之一。
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